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G4 Phoeni擴散氫分析儀注意事項

文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2023-4-23     瀏覽次數:    

G4 PHOENIX DH用于測定不同樣品中的擴散氫含量,儀器可配備快速加熱的紅外爐或者高溫管式爐,并配置專用的石英管用于樣品的加熱。樣品管直徑達30mm能夠實現對大塊樣品的分析,系統采用10點氣標校準。系統的核心是一個高靈敏度長期穩定的熱導檢測器,該檢測器能夠實現超低含量氫的檢出。

注意事項

1. 儀器工作環境溫度為 15-30 度。(建議是有空調的試驗室)

2. 儀器附近溫度不要有大的波動,例如不要吹風,也不能有日曬。

3. 大干燥筒中裝有 5A 分子篩,用于氣體分離及脫水。為保 證良好的效果,分子篩 使用 3~6 個月后需重新進行活化?;罨瘲l件是將分子篩放在瓷器中在 500~550°

C 馬弗爐中烘燒 2~3 小時?;罨蠹纯稍儆?。

4.干燥管中的高氯酸鎂也會因吸濕而失效,2~3 個月可烘干一 次或換成新的。將 吸濕的高氯酸鎂放在瓷器中于 105°C 下烘 2~3 小時(注意升溫一定要緩慢), 可重復使用。

5.由于儀器需要用氫氣,注意避免煙火。

6.未經培訓的儀器操作人員在儀器出現電路或氣路故障的情況下,切勿對儀器內部

器件私自進行調整。

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